1、日本CARLIT公司准备量产瞄准EV的“色素”
日本CARLIT HOLDING公司开发了一种高耐热性色素，可以吸收使汽车内部温度上升的近红外线。将于2022年度内开始提供样品。耐热性从原来的约200摄氏度提高到超过200摄氏度。有望用于混入树脂后，简单加工成阻隔近红外线的树脂窗。该产品成为有助于提高电动汽车(EV)空调效率和轻量化的材料，目标是将来销售额超过10亿日元。
清水建设与远东开发工业公司开发出了提高混凝土浇筑工程效率的机械装置“大型配电器”。该装置伸出水平长29米的折叠式吊杆，连接竖排管和浇筑场所，有效地分配和浇筑混凝土。可以大幅减少现场混凝土的浇筑次数和浇筑时间。可大幅节省人力，最大节省2000人。
3、日本东北大学和东芝开发的抑制原料成本和资源风险的粘结磁铁
日本东北大学的杉本谕教授和东芝开发出了使用钐的粘合剂磁铁。确认了与现有的钕粘合剂磁铁有同等的性能。钐用途有限，通过分别使用稀土，可以控制原料成本，也可以控制资源风险。以钐和铁为基础，添加钴、铌和硼。将溶解的合金急冷凝固后进行热处理，在铁类化合物结晶的交界处就会浓缩铌和硼。将该磁铁粉末用树脂等凝固成粘合磁铁后，表现性能的最大能量积为每立方米98千焦耳，残留磁通密度为0.82特斯拉，与钕粘合磁铁相同。高温下的磁力下降被控制在钕磁铁的一半左右。稀土类的使用量占元素的6%，是钕磁铁的一半。钐是开采钕的副产品，使用范围不大，因此待开发利用，而稀土类的开采和提炼对环境的负荷很大，必须充分利用资源。
4、京瓷开发的利用潮汐发电的使用少量电力的“智能浮标”
京瓷和长崎大学共同开发出了利用潮汐发电的电力收集并发送数据的“智能浮标”。虽然发电量很少，但即使在电池很难更换的海上也能持续运转。而其使用小能量发电被称为能量收割机。作为在降低能源消耗的同时支撑LOT(物联网)普及的技术备受关注，智能浮标的实用化值得期待。
日本明电纳米工艺革新公司(NPI，东京都品川区，高田寿士社长)开始接受以高纯度100%臭氧为氧化源的成膜装置“分批式常温PO - ALD成膜装置”的订单。预计主要用于半导体制造。通常等离子体成膜在常温(30 - 150摄氏度)下的成膜是不可能的，通过这台设备可以将成膜温度控制在常温下，可以抑制对基材的伤害。常温下的成膜技术是世界首创。目标是年销售6台。
【日本語】
カーリットホールディングス（ＨＤ）は、自動車内の温度上昇の原因となる近赤外線を吸収する高耐熱性色素を開発する。２０２２年度中にサンプル提供を始める。耐熱性を従来の約２００度Ｃから２００度Ｃ超に高める。樹脂への練り込みが可能になり、近赤外線をカットする樹脂窓を簡単に加工できる。電気自動車（ＥＶ）のエアコン効率向上や軽量化に寄与する素材として提案し、将来売上高１０億円超を目指す。
2、2000人を省人化、清水建設が開発したコンクリ打設を効率化する機械装置の全容
清水建設は、極東開発工業とコンクリート打設工事を効率化する機械装置「大型ディストリビュータ」を開発した。同装置は水平長２９メートルの折り畳み式ブームを伸ばして縦配管と打設場所を結び、コンクリートを効率よく分配・打設する。現場でのコンクリート打設回数と打設時間を大幅に削減できる。
3、東北大と東芝が開発、原料コスト・資源リスクを抑えるボンド磁石の中身
東北大学の杉本諭教授と東芝は、サマリウムを使ったボンド磁石を開発した。現行のネオジムボンド磁石と同等の性能を確認した。サマリウムは用途が限られ余剰気味。希土類（レアアース）を使い分けることで原料コストを抑え、資源リスクも抑えられる。
サマリウムと鉄をベースとし、コバルトとニオブ、ホウ素を添加する。溶解した合金を急冷凝固させて熱処理すると、鉄系の化合物結晶の境目にニオブやホウ素が濃縮される。
この磁石粉末を樹脂などで固めてボンド磁石にすると、性能を表す最大エネルギー積は１立方メートル当たり９８キロジュールで、残留磁束密度は０・８２テスラとネオジムボンド磁石と同等だった。高温での磁力低下はネオジム磁石の約半分に抑えられた。
希土類の使用量は元素比で６％とネオジム磁石の半分になる。サマリウムはネオジム採掘の副産物として得られるが余剰気味。希土類の採掘や精製は環境負荷が大きく、資源をうまく使い尽くす必要があった。
4、京セラが開発、潮流で発電したわずかな電力を生かす「スマートブイ」
潮流を利用して発電した電気でデータを収集、送信する「スマートブイ」を京セラと長崎大学が共同開発した。発電量はわずかだが、電池交換が難しい海でも永続的に稼働する。小さなエネルギーを使った発電はエナジーハーベスティングと呼ばれる。エネルギー消費を抑えながらＩｏＴ（モノのインターネット）の普及を支える技術として注目されており、スマートブイの実用化にも期待がかかる。
5、世界初、常温での成膜技術を生かした半導体装置
明電ナノプロセス・イノベーション（ＮＰＩ、東京都品川区、高田壽士社長）は、高純度１００％オゾン（ピュアオゾン）を酸化源とする成膜装置「バッチ式常温ＰＯ―ＡＬＤ成膜装置」の受注を始めた。主に半導体製造での用途を想定。プラズマ成膜では不可能な常温（３０―１５０度Ｃ）での成膜が可能で基材へのダメージを抑えられる。常温での成膜技術は世界初という。年６台の販売を目指す。